概要
シリコン結晶を溶解させ、結晶中の不純物濃度分析をおこないます。
今回ご紹介する分析法は、誘導結合プラズマ質量分析 (ICP-MS) です。
前処理
- シリコン結晶に酸を加えて完全に溶液化させることで、含有不純物の濃度分析をおこなう
- 特殊な前処理法を採用することで、揮発性の高いホウ素についてもケイ素の影響を排除し、回収率よく分析することを可能にした
測定装置と定量下限値
四重極型の ICP-MS では多原子イオンの干渉 (15N16O、14N16O1H) によりリンの微量分析は困難だが、高分解能の ICP-MS を用いることで、多原子イオンを分離できるため、リンの微量分析が可能となる。
| Na | Al | Ca | Fe | P | B | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 定量下限 (ng / g) | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 | 20 |
検索番号：3020
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