電子材料

半導体配線、半導体、ウェハ、基盤、IC、容器、クリーンルーム、
絶縁体、研磨剤量、研磨液、記憶媒体、ディスプレイ、スマートフォン、
携帯電話、有機EL、シール材など、複写機・プリンター、コンデンサー、全般



半導体配線、半導体、ウェハ、基板、IC、容器、クリーンルーム


5G 低誘電特性樹脂の物性評価 -吸水率に対する誘電特性-

硬化樹脂 (接着剤) の総合解析

5G スマートフォンのフレキシブルプリント基板分析 -断面観察および層構成解析-

5G スマートフォンのプリント基板分析 -断面観察-

プリント配線基板上の金パッド表面の変色原因解析

未知成分の構造推定 GC/MS/MS Q-TOF型

エポキシ系接着剤の硬化・接着性解析 -パルスNMR-

クリーンルーム大気の分析(酸性・塩基性物質および金属成分の分析)

シリコン基板上ポリシリコン膜の金属汚染分析

ナノスクラッチ測定法

ナノ薄膜の膜厚、密度、ラフネスの評価 X線反射率法(XRR法)

パワー半導体向け封止材の評価

パワー半導体素子断面の観察 SEM,高感度EDS

基板表面のイオン成分分析

多層膜の金属汚染分析

多層膜の金属汚染分析の前処理

微小硬度計による基板の局所硬度測定

微小空間内面のアウトガス分析

揮発性有機化合物 (VOC) 分析 (1)

揮発性有機化合物 (VOC) 分析 (2)

硬化樹脂の総合評価 -原料・硬化挙動・製品の評価-

超微量アンモニウムイオン (NH4+) の定量 -イオンクロマト法-

高感度 (10 倍以上)・高分解能 (50 nm) 元素分布評価 -SEM-EDS-

FIB-TEMによる低誘電率材料/銅配線の微細構造観察

ICチップの断面観察(携帯電話の例)

ICP-MS法による基板表面の金属汚染の分析

TDS-MSによる半導体の分析(1)



絶縁体、研磨材料、研磨液


帯電圧減衰試験

材料表面の親水性・疎水性評価 -水蒸気吸着法・化学力顕微鏡 (CFM)-

湿度・水中環境制御 粘弾性測定

絶縁体中の空隙の非破壊検査 (1)

絶縁体中の空隙の非破壊検査 (2)

高分子薄膜の電気特性評価

高塩濃度中の微量元素の定量

高温高湿度環境下での絶縁抵抗(体積抵抗率)測定



記憶媒体(CD/DVD)


DVD記録マークの観察



ディスプレイ、スマートフォン(液晶、偏光フィルム)


5G 基板用フィラーの物性評価 -吸水性および絶縁抵抗試験-

5G対応回路基板と配線界面の解析 -部材から製品まで-

5G製品 (高周波対応) の分析物性評価 -部材から製品まで-

アロイ構造の解析 (携帯電話の筐体、表示部)

原子間力顕微鏡による液晶素子の形態観察

液晶中のイオン成分の分析

熱分解ガスクロマトグラフ質量分析(Py-GC/MS)による液晶ポリマーの組成分析

角度可変XPS分析法による有機物表面の分析

走査型プローブ顕微鏡による液晶の直接観察

高真空下における高分子フィルムからの昇温脱離分析-TDS-MS-

FT-IRによる高分子材料の解析

スマホディスプレイ 多層フィルムの構造解析

スマホディスプレイ_タッチパネル電極の断面観察

スマホディスプレイの断面観察(SEM)



携帯電話(フィーチャーフォン)、有機EL、シール材料など


5G 基板用フィラーの物性評価 -吸水性および絶縁抵抗試験-

5G対応回路基板と配線界面の解析 -部材から製品まで-

5G製品 (高周波対応) の分析物性評価 -部材から製品まで-

有機ELの断面観察

有機EL部材の元素マッピング(面分析)

液晶パネルシール部の分析

近赤外(NIR)によるエポキシ硬化反応の追跡

電極部の断面観察(携帯電話の入力キー)



複写機・プリンター(トナー、インクジェットプリンターインク)


トナー粒子上ナノサイズ表面処理剤の元素分析 SEM-EDS

レーザー回折・散乱法による微粒子の粒度分布測定

水性顔料インクの成分分析

水溶性樹脂のTEM観察技術

透過型電子顕微鏡(TEM)によるトナーの微細構造観察



コンデンサー、全般


5G対応樹脂の物性評価

WEEE & RoHS規制対応分析 鉛フリーはんだ及びめっき中の有害金属の分析

XPSによる高分子フィルム表面分析

ナノインデンテーションによる表面ヤング率の測定

プラズマ処理PPの表面特性総合評価 X線電子分光(XPS)など

三次元TEMによる各種材料の構造解析

加熱発生ガス分析 分析方法一覧

樹脂中のハロゲン元素の定量分析

欧州連合(EU)の環境規制に基づく電気電子機器の有害物質

比誘電率(εr)・誘電正接の測定 (tanσ) (110 Hz ~ 1 MHz 段階的)

比誘電率(εr)・誘電正接(tanσ)の測定-② マイクロ波帯/GHz帯(2.4、4、12、24 GHz)

表面粗さ測定法

複合材中のCNF分散状態評価 (2) ミクロフィブリル構造

ABS樹脂の破面解析 -SEM-

FT-IR による熱硬化樹脂の反応追跡

FT-IR によるUV硬化樹脂の反応追跡


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